이재용(사진) 삼성전자 부회장의 경자년 새해 첫 현장 경영 행보는 삼성의 차세대 반도체 생산라인이었다.
2030년까지 메모리뿐만 아니라 비메모리 부문에서도 1위를 달성하겠다는 '반도체 비전 2030'을 지난해 주요 경영계획으로 내놓은 이 부회장이 올해도 다시 한번 반도체 사업에서의 '초격차' 의지를 강조하려는 의도가 담긴 것으로 해석된다.
이 부회장은 2일 경기도 화성사업장 내에 있는 반도체연구소를 찾아 삼성전자가 세계 최초로 개발한 3나노(1㎚=10억분의1m) 공정기술을 보고 받고 반도체부문 사장단과 함께 차세대 반도체 전략을 논의했다.
3나노 반도체는 최근 공정 개발을 완료한 5나노 제품에 비해 칩 면적을 약 35% 이상 줄이면서 소비전력을 50% 감소시킬 수 있는 것으로 알려졌다. 성능은 5나노 대비 약 30% 향상시킬 수 있다는 설명이다.
이 부회장은 "과거의 실적이 미래의 성공을 보장해주지 않는다"며 "역사는 기다리는 것이 아니라 만들어가는 것"이라고 말했다.
이어 "잘못된 관행과 사고는 과감히 폐기하고 새로운 미래를 개척해 나가자"며 "우리 사회와 같이 나누고 함께 성장하는 것이 우리의 사명이자 100년 기업에 이르는 길임을 명심하자"고 강조했다.
삼성전자는 반도체 파운드리(위탁생산) 분야에서 대만 TSMC 등과 초미세공정 경쟁을 벌이고 있다. 삼성전자는 7나노극자외선(EUV) 공정을 업계 최초로 도입하는 등 기술력에서는 이 분야 세계 1위 TSMC와 격차가 거의 없다는 게 업계의 설명이다.
파운드리는 삼성전자가 비메모리 1위를 달성하기 위해 이미지센서와 함께 전략적으로 육성하고 있는 사업 중 하나다. 지난해에는 TSMC와 시장 점유율 격차가 다소 벌어지며 발등에 불이 떨어진 상태다.
삼성전자 관계자는 "이 부회장이 새해 첫 경영 행보를 반도체 개발 현장에서 시작한 것은 메모리에 이어 시스템반도체 분야에서도 세계 1위가 되겠다는 비전을 다시 한번 임직원과 공유하며 목표달성 의지를 다진 것"이라고 말했다.
노정동 한경닷컴 기자 dong2@hankyung.com
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