방해요소 역이용한 3차원 나노구조체 제작기술 개발

기존 방식에서의 방해요소를 역이용하는 3차원나노구조체 제작공정 기술이 개발됐다.

한국표준과학연구원(KRISS)은 나노바이오측정센터 유은아 박사 연구팀이 '포토리소그래피' 공정 기반에서 빛의 회절과 간섭 효과를 이용해 구조를 제어하는 3차원나노구조체 어레이 제작기술을 내놨다고 8일 밝혔다.

사진 인화 기술을 응용한 포토리소그래피는 감광물질(포토레지스트) 위에 원하는 패턴이 있는 마스크를 놓고 자외선을 쏴 빛을 받은 영역에 따라 패턴을 만드는방식이다.

반도체와 집적회로 등 미세한 패턴을 만드는 데 사용되는데, 빛의 회절과 간섭때문에 정확히 원하는 구조를 만들기 어려웠다.

기존에는 이러한 단점을 보완하고자 고가의 장비를 활용해 빛의 파동성을 낮추는 등 복잡한 제작 과정을 거쳤다.

KRISS 유은아 박사 연구팀은 기존의 방해요소였던 빛의 회절과 간섭을 역으로이용해 3차원 나노구조체를 제작하는 방법과 형성원리를 규명하고 설계 규칙을 제시했다.

빛과 물질 간 상호작용을 토대로 빠르게 큰 면적의 3차원 나노구조체를 만들 수있다고 유 박사 연구팀은 전했다.

유은아 박사는 "반도체, 광학, 의료소자 등 다양한 산업 분야에 적용할 수 있을것"이라며 "정교한 나노구조체 어레이를 전보다 쉽게 제작할 수 있을 것으로 기대한다"고 말했다.

고려대 물리학과 최종호 박사와 박규환 교수가 참여한 이 연구는 미래창조과학부 글로벌 프론티어 사업과 KRISS 기관 고유사업 지원으로 수행했다.

결과는 재료 분야 국제학술지 '어드밴스드 펑셔널 머티리얼즈(Advanced Functional Materials)' 8월 2일 자 표지 논문(Front Cover)으로 실렸다.

walden@yna.co.kr(끝)<저 작 권 자(c)연 합 뉴 스. 무 단 전 재-재 배 포 금 지.>