산업기술 R&D, 재외 한인 공학인에게 대폭 문호 개방

입력 2013-07-25 12:00  

산업통상자원부는 25일(목) 한국기술센터에서 재외 한인 공학인 등이 참석하는 오찬간담회를 개최하고 `재외 한인 공학인 산업기술 R&D 참여 확대방안`을 발표했습니다.

산업부는 `재외 한인 공학인 산업기술 R&D 참여 확대방안`은 재외 한인 공학인 2만명 시대를 맞아, 세계 각지에 진출해 있는 이들의 혁신역량을 활용해 산업기술 R&D의 개방성을 확대시키고, R&D 수행시 창출되는 지적재산권이 미국 등 선진시장에서 사업화까지 잘 연결되어 산업기술 R&D의 성과 제고를 지향하고 있다고 설명했습니다.


간담회에는 정만기 산업부 산업기반실장 주재로 해외에서 활발히 활동하고 있는 이호신 미국 아이오와주립대 교수, 최승현 미국 SALK 연구소 교수, 조재현 재미한인과학기술자협회 임원을 비롯해 R&D 유관기관 관계자 등 총 15명이 참석했습니다.


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