SK하이닉스가 일본 도시바와 나노 임프린트 리소그래피(Nano Imprint Lithography, NIL) 기술에 대한 공동 개발 본 계약을 체결했습니다.
두 회사는 지난해 12월, 같은 내용으로 업무협약(MoU)를 체결한 바 있으며, 이번 본 계약 체결을 통해 실제 개발에 착수하게 됩니다.
SK하이닉스는 NIL 기술에 대한 공동 개발을 오는 4월부터 요코하마에 위치한 도시바 팹에서 진행할 예정이며, 2017년쯤 상용화가 가능하다고 밝혔습니다.
NIL 기술은 차세대 리소그래피 공정기술로 평가 받고 있는 기술로, 막대한 투자가 선행되어야 하는 기존 공정기술과 비교해 경제적인 양산이 가능하다고 회사 측은 설명했습니다.
두 회사는 지난해 12월, 같은 내용으로 업무협약(MoU)를 체결한 바 있으며, 이번 본 계약 체결을 통해 실제 개발에 착수하게 됩니다.
SK하이닉스는 NIL 기술에 대한 공동 개발을 오는 4월부터 요코하마에 위치한 도시바 팹에서 진행할 예정이며, 2017년쯤 상용화가 가능하다고 밝혔습니다.
NIL 기술은 차세대 리소그래피 공정기술로 평가 받고 있는 기술로, 막대한 투자가 선행되어야 하는 기존 공정기술과 비교해 경제적인 양산이 가능하다고 회사 측은 설명했습니다.
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