AZ 일렉트로닉 머티리얼즈 (現 머크 기능성 소재 사업부)의 CTO (최고기술책임자)였던 랄프 다멜 박사가 지난달 23일 개최된 2015 캘리포니아 광학 박람회(SPIE Advanced Lithography Exhibition 2015) 시상식에서 미세공정 분야의 권위있는 상인 프리츠 제르니커(Frits Zernike) 어워드를 수상했다.
프리츠 제르니커 어워드는 매년 미세공정 기술, 특히 반도체 미세 회로 구현 솔루션에서 뛰어난 업적을 이룩한 개인에게 수여된다. 다멜 박사는 반도체 초미세가공을 위한 포토레지스트, 반사방지코팅, 유도 자기조립(DSA) 소재 개발에 지대한 기여를 인정받아 올해의 수상자로 선정됐다.
시상식 후 다멜 박사는 “SPIE에서 권위있는 프리츠 제르니커 상을 받아 정말 영광스럽다. 앞서 미세공정 분야에서 수상한 모든 위대한 개발자들과 함께 하게 되어 한편으론 겸손한 마음이 든다. 이들은 모두 뚜렷한 기여를 통해 오늘날의 반도체 업계를 형성해 왔다. 상을 받기까지 함께 해준 동료들과 협업 파트너에게도 감사를 드린다”며 소감을 전했다.
이번 상은 2015 심포지엄 공동 좌장인 브루스 스미스 로체스터공대 교수가 개회식에서 수여했다.
다멜 박사는 화학과 초미세가공 분야에서 200여건의 논문을 발표했으며, 90여건의 관련 분야 특허를 보유하고 있다. 그의 유명 저서인 “다이아조나프토퀴논 기반 레지스트”는 이 분야의 교과서로 사용될 정도다.
다멜 박사는 AZ와 그 이전 직장에서 1986년부터 글로벌 R&D 디렉터, CTO 등 다양한 기술 보직을 맡았다. 다멜 박사는 2014년 머크의 AZ 인수 이후 미국 화학 사업 기술 책임자에 올랐다. 그는 미세공정과 신규 유망 기술 분야에서 자신의 전문성을 계속해 발휘할 예정이다.
다멜 박사는 SPIE 정회원으로, 국제광학회(SPIE)와 미국화학회(ACS)에서 다수의 교육 과정을 맡은 강사로도 활동하고 있다. 2011년 6월에는 광중합체(Photopolymer) 과학기술 우수상을 수상하기도 했다.
반도체 업계에서 광화학과 집적회로 소재를 만드는 선도 업체인 머크는 지난달 22~26일 열린 2015 캘리포니아 광학 박람회(SPIE Advanced Lithography Exhibition 2015)에 참여했다.
다멜 박사는 R&D 동료들과 함께 최신 DSA 개발 동향에 관한 특별 발표도 했다. 발표는 SPIE 행사장에서 여덟 차례의 프리젠테이션으로 진행됐다. 발표 주제는 DSA 결함, 라인 표면거칠기/라인 크기 변동(LER/LWR), templated DSA, chemoepitaxy DSA, high chi DSA, 새로운 블록공중합체, DSA 집적 등이었다.
SPIE는 1955년 설립된 광학 분야(optics and photonics) 국제 학회로 광기반 기술 발전을 취지로 운영되고 있다. 학회 회원은 155개국 23만5000명에 육박한다. 분야간 정보 교류, 전문가 네트워킹, 특허 지원을 위해 컨퍼런스, 평생교육, 단행본과 저널 출판, 디지털 도서관 사업 등을 진행하고 있다.
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