삼성전자가 경기도 화성캠퍼스에서 화성 EUV 라인 기공식을 열고 라인 건설에 착수했습니다.
이번에 착공하는 화성 EUV라인은 `19년 하반기에 완공, 시험생산을 거쳐 오는 2020년부터 본격 가동을 시작할 예정입니다.
EUV 장비는 극자외선을 이용해 반도체 미세 회로를 구현하는 장비로, 기존 불화아르곤(ArF) 광원보다 파장이 짧아 미세공정 한계 극복을 위한 핵심 장비로 평가받습니다.
EUV 기술이 본격 상용화되면 반도체의 성능과 전력효율을 향상시킬 수 있음은 물론 회로 형성을 위한 공정수가 줄어들어, 생산성도 획기적으로 높일 수 있습니다.
삼성전자는 화성 EUV라인을 통해 향후 모바일/서버/네트워크/HPC 등 고성능과 저전력이 요구되는 첨단 반도체 시장 수요에 적기 대응하고, 7나노 이하 파운드리 미세공정 시장을 주도해 나갈 계획이라고 밝혔습니다.
화성 EUV라인의 초기 투자규모는 건설비용 포함 2020년까지 60억달러 수준으로, 삼성전자는 라인 가동 이후 시황에 따라 추가 투자를 추진할 계획입니다.
지난 2000년 화성캠퍼스 개발로 시작된 삼성전자와 화성시의 동반성장도 이번 EUV 신규라인 건설로 더욱 확대될 전망입니다.
삼성전자 DS부문장 김기남 사장은 기공식 기념사를 통해 "이번 화성 EUV 신규라인 구축을 통해 화성캠퍼스는 기흥ㆍ화성ㆍ평택으로 이어지는 반도체 클러스터의 중심이 될 것"이며, "삼성전자는 산학연 및 관련 업계와의 다양한 상생협력을 통해 국가경제에 기여할 것"이라고 말했습니다.
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