삼성전자, 중국 시안 반도체 2기 라인 착공

삼성전자가 3D V낸드 수요 증가에 대응하기 위해 중국 시안 반도체 사업장에 2기 라인을 건설합니다.

삼성전자는 오늘(28일) 오전 중국 산시성 시안시에서 후허핑 산시성 성위서기, 먀오웨이 공신부 부장, 류궈중 산시성 성장, 노영민 주중 한국대사, 이강국 주시안 총영사, 김기남 삼성전자 대표이사 사장 등이 참석한 가운데`삼성 중국 반도체 메모리 제2기 라인 기공식`을 가졌다고 밝혔습니다.

지난해 8월 삼성전자는 시안 반도체 2기 라인 투자를 위해 산시성 정부와 MOU를 체결한 바 있으며, 향후 3년간 총 70억 달러를 투자하기로 했습니다.

이로써 삼성전자는 중국 시안에 반도체 2기 라인을 구축해 낸드플래시(V-NAND)를 필요로 하는 글로벌 IT 시장의 요구에 적극 대응 하겠다는 계획입니다.

김기남 사장은 기념사를 통해 "시안 2기 라인의 성공적인 운영으로 최고의 메모리 반도체 제품 생산과 함께, 차별화된 솔루션을 고객에게 제공하여 글로벌 IT 시장 성장에 지속 기여 하겠다"고 말했습니다.

특히 이번 2기 투자를 통해 낸드플래시 최대 수요처이자 글로벌 모바일, IT업체들의 생산기지가 집중되어 있는 중국시장에서 제조 경쟁력을 더욱 강화하고, 중국 시장 요구에 보다 원활히 대응할 수 있을 것으로 삼성전자는 기대하고 있습니다.

삼성전자의 이번 추가 투자로 시안시를 비롯한 산시성 지역 경제 활성화와 중국 서부지역 산업에도 긍정적 파급효과가 예상됩니다.

삼성전자 시안 반도체 사업장은 2012년 1기 기공식을 시작으로 2013년 전자연구소 설립, 2014년 1세대 V-NAND 양산, 2015년 후공정 라인 완공, 2018년 2기 증설까지 꾸준한 투자를 추진하고 있습니다.