삼성전자, 이달 말 中 시안 낸드플래시 공장 증설 착공

입력 2018-03-13 19:12   수정 2018-03-13 19:24

삼성전자, 이달 말 中 시안 낸드플래시 공장 증설 착공
<YNAPHOTO path='C0A8CA3C00000153DFC48F03000072E6_P2.jpeg' id='PCM20160404028500039' title='삼성전자 3D 낸드플래시 반도체' caption='[연합뉴스TV 제공]' />

(서울=연합뉴스) 정성호 기자 = 삼성전자[005930]가 중국 시안(西安)의 낸드플래시 메모리 공장을 증설하는 공사를 이달 말 시작한다.
13일 반도체업계에 따르면 삼성전자는 이달 말 시안 낸드플래시 공장 증설 공사의 착공식을 한다. 착공식에는 DS(디바이스솔루션)부문장인 김기남 사장과 중국 지방 정부 관계자 등이 참석할 것으로 알려졌다.
낸드플래시 공장 증설은 중장기적인 수요 증가에 대응하기 위한 것으로, 삼성전자는 증설에 앞으로 3년간 70억 달러(약 7조8천억원)을 투자할 계획이다.
삼성전자는 국내에서도 설비 투자에 박차를 가하고 있다.
지난달 23일에는 경기도 화성캠퍼스에서 EUV(극자외선) 생산라인 기공식을 가졌다. 차세대 첨단 미세공정인 EUV 작업을 수행할 수 있는 파운드리(반도체 수탁생산) 생산라인을 짓는 공사다.
또 이재용 부회장이 항소심에서 집행유예 선고를 받고 풀려난 직후인 지난달 7일에는 평택 반도체 단지에 제2생산라인을 건설하기 위한 예비 투자 안건을 의결했다.
sisyphe@yna.co.kr
(끝)


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