송명섭 하이투자증권 연구원은 24일 "지난해 4분기부터 연말까지 삼성전자는 17라인 D램 생산능력 증설, D램 20나노 전환 투자, 중국 시안 낸드 라인 증설, 미국 오스틴 라인 14나노 FinFET 업그레이드 투자를 예정하고 있다"며 "SK하이닉스 역시 올해 초부터 D램 M14 라인 증설과 21나노 전환 투자를 집행할 것"이라고 전망했다.
마이크론 진영 또한 20나노 전환 투자를 진행 중인 것으로 판단했다. 반도체 업체들의 증설과 미세공정 전환 투자 본격화는 'Dry Strip' 장비에서 세계 시장의 40% 이상을 점유하고 있는 피에스케이의 매출을 크게 증가시킬 것으로 봤다. 'Dry Strip'은 반도체 전공정인 식각 공정에 사용되는 장비다.
하이투자증권은 피에스케이의 올해 매출과 영업이익은 각각 전년 대비 48%와 106% 급증한 2204억원과 365억원을 기록할 것으로 추정했다.
원익IPS와 제이티도 반도체 투자 증가에 따른 수혜가 기대되고 있다.
황준호 KDB대우증권 연구원은 "올해 D램 투자는 138억달러로 지난해보다 39%, 낸드 투자 역시 118억달러로 13% 증가할 것"이라며 "미세공정 전환의 어려움으로 동일한 메모리용량 생산을 위한 투자금액이 과거에 비해 급격히 증가하고 있다"고 말했다.
이는 원익IPS에서 생산하는 증착 및 식각 장비의 수요 증가로 이어질 것이란 분석이다.
하준두 신한금융투자 연구원은 후공정 검사장비 업체인 제이티에 대해 "대표 제품인 'Burn in
Sorter'는 반도체 검사 공정에서 불량과 정상제품을 선별하는 설비로서 반도체 제조에 있어 필수"라며 "최근의 실적 흐름과 수주 추이를 보면 올해 2012년을 넘어서는 사상 최대 실적 도전이 가능하다"고 했다.
한경닷컴 한민수 기자 hms@hankyung.com
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