이석희 SK하이닉스 부사장 "메모리 기술 미세화…D램 발전 지속할 것"

세계 최고 반도체학회 기조연설

인텔 최고상 3회 수상
KAIST 교수 거쳐 40대에 부사장 올라


[ 김현석 기자 ] 이석희 SK하이닉스 부사장(사진)이 반도체분야 세계 최고 권위 학회인 국제반도체소자학회(IEDM)에서 연설을 했다. IEDM 기조연설을 한 것은 2006년 황창규 당시 삼성전자 사장, 2010년 김기남 삼성전자 사장에 이어 한국인으로는 세 번째다.

이 부사장은 5일 미국 샌프란시스코에서 열린 제62회 IEDM 개막식에서 ‘미세공정 기술에 대한 도전과 메모리 반도체의 기회’라는 제목으로 연설했다. 인공지능(AI) 왓슨을 개발한 IBM의 다멘드라 모다 연구원장과 뇌신경망반도체를 개발하고 있는 프랑스 원자력청(CEA) 산하 레티연구소의 마리 노엘 수무리아 소장 등 세 명의 기조연설자 중 첫 번째였다.

이 부사장은 “메모리 기술의 핵심인 공정 미세화가 10나노미터(㎚)대에서 한계를 맞고 있지만 새로운 기술을 앞세워 D램은 미래 컴퓨팅 시스템에 부합하는 고속·고용량으로의 발전을 지속할 것”이라고 밝혔다. 또 “낸드 플래시는 3차원(3D) 시장으로 본격 전환되고 있으며, 메모리는 컨트롤러와 소프트웨어에 기반한 솔루션 제품으로 확대될 것”으로 내다봤다.

그는 SK하이닉스에서 D램 개발을 총괄하는 책임자(D램개발사업부문장)다. 서울대에서 학·석사(무기재료공학) 학위를 딴 뒤 1990년부터 5년간 현대전자(SK하이닉스)에서 근무했다. 미국 스탠퍼드대에서 재료공학박사 학위를 받고 2000~2010년 인텔에서 일했다. 당시 내부 최고 상인 ‘인텔 성취상’을 세 번 받았다. 3년간 KAIST 교수로 일하다 2013년 첫 직장인 SK하이닉스로 돌아왔다. 1965년생으로 2014년 말 40대에 부사장에 올랐다.

IEDM은 국제반도체회로설계학회(ISSCC) 등과 함께 세계 최고 권위의 반도체학회로 역사가 60년이 넘는다. CMOS 이미지센서, 100나노 이하 공정기술, 하이케이메탈게이트(HKMG), 핀펫(FinFET) 등 반도체산업의 발전을 주도한 새로운 기술들이 IEDM을 통해 처음 발표됐다. 제62회 IEDM은 7일까지 열린다.

김현석 기자 realist@hankyung.com



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