삼성전자, 시스템반도체 2.5조 투자

화성에 생산라인 증설키로


[ 김현석 기자 ] 삼성전자가 2조5000억원을 투자해 10나노미터(㎚) 시스템반도체 생산라인을 증설한다.

13일 업계에 따르면 삼성전자는 경기 화성시 17라인 공장의 빈 공간에 10㎚ 시스템반도체 라인을 증설하기로 하고 국내외 주요 협력사에 장비를 발주했다. 생산 규모는 월 1만8000장(웨이퍼 투입 기준)이다.

라인 증설에는 모두 2조5000억원가량이 투입될 것으로 알려졌다. 다음달부터 장비가 반입돼 올 상반기 생산라인 설치를 끝내고, 하반기부터는 생산을 시작한다는 계획이다.

삼성전자는 작년 말 경기 기흥시 S1 라인에 세계 최초로 10㎚ 생산라인을 구축해 퀄컴 스냅드래곤 835와 자체 애플리케이션프로세서(AP)인 엑시노스9 시리즈(8895)를 생산하고 있다. 기흥 S1에서는 월 2만5000장의 반도체를 생산하고 있다.

화성 17라인은 2015년 완공됐다. 1단계로 D램 라인이 설치됐으며 지난해 2단계로 3차원(3D) 낸드플래시 라인이 구축됐다. 업계 관계자는 “17라인은 당초 시스템반도체 전용 라인으로 계획돼 ‘S3’로도 불렸지만 지금은 D램, 3D 낸드에 이어 10㎚ 시스템반도체까지 함께 생산하는 복합 반도체 공장이 되는 것”이라고 말했다.

삼성전자는 내년께 7㎚ 반도체 공장도 화성 혹은 기흥에 증설할 것으로 알려졌다. 세계에서 삼성전자와 인텔 TSMC 등 3개 회사만이 7㎚ 반도체를 개발 중이다. 삼성전자는 7㎚ 생산라인을 세계 최초로 구축해 TSMC에 빼앗긴 애플 파운드리 물량을 되찾아오겠다는 전략이다.

김현석 기자 realist@hankyung.com




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