테스, 기판처리장치 국내 특허권 취득

테스는 반도체 장비에 적용되는 기술인 기판처리장치 국내 특허권을 취득했다고 22일 공시했다.

회사 측은 "이 특허를 이용하면 공정 진행 시 챔버 내에서 대칭적인 반응공간을 형성해 가스의 흐름과 배기를 대칭적이면서 균일하게 해 막의 균일성을 향상시킬 수 있다"며 "반도체 장비에 적용, 연구개발(R&D)활동에 응용해 제품경쟁력 강화에 활용할 계획"이라고 밝혔다.

김은지 한경닷컴 기자 eunin11@hankyung.com



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