"한·미 특허 공동심사 2020년까지 연장"

양국 특허청 제네바서 합의


[ 박근태 기자 ] 한국과 미국이 2015년부터 시범적으로 시행해온 특허 공동심사제도(CSP)를 2020년까지 연장해 운영하기로 합의했다.

특허청은 지난 2일부터 11일까지 스위스 제네바에서 열린 ‘제57차 세계지식재산기구’ 회원국 총회 기간 중 성윤모 청장(사진)과 조지프 머털 미국 특허상표청(USPTO) 청장 직무대리가 만나 양국 특허 공동심사프로그램을 3년 연장하는 데 합의했다고 발표했다.

특허 공동심사란 출원인이 한국과 미국에 동일한 발명을 출원한 뒤 공동심사를 신청하는 경우 심사에 필요한 선행기술 정보를 양국 심사관이 공유하고 다른 출원 건보다 빨리 처리해주는 국가 간 심사 협력 프로그램이다. 양국 심사관이 심사에 착수하기 전 서로의 검색 결과와 특허성에 대한 판단 결과를 교환하기 때문에 심사 품질을 높이고 심사 결과의 일관성이 올라가는 효과가 있다. 이 제도는 2015년 한국이 미국에 제안해 2년간 시범 운영됐다. 신청 요건과 진행 절차가 간소해지고 유용성을 인정받으면서 이번에 3년간 연장하기로 했다.

성 청장은 이번 총회 기간에 프랜시스 거리 WIPO 사무총장, 유럽연합(EU), 아랍에미리트(UAE) 등 8개국 특허 관계자와 잇따라 만나 양자 간 지식재산권 현안을 논의하고 5건의 양해각서(MOU)를 맺었다.

성 청장은 이번 총회 개막 연설에서 “4차 산업혁명이 지식재산권 심사와 활용에서 큰 변화를 가져올 것으로 예상된다”며 “지식재산권 관련 위조품 유통을 막기 위한 강도 높은 노력과 함께 타인의 ‘기술 및 아이디어에 무임승차하는 행위’를 막는 유연한 보호 방안도 함께 추진해야 한다”고 강조했다.

박근태 기자 kunta@hankyung.com



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