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ASML, 극자외선 반도체 노광장비 성능 향상 2014-08-01 14:50:30
가능 세계적인 반도체장비 업체인 네덜란드 ASML이 극자외선(EUV) 노광장비인 'NXE:3300B'의 성능을 하루 500장 이상의 웨이퍼를 처리할수 있게 향상시켰다고 1일 밝혔다. 이 장비는 개선된 오버레이와 변형조명법이 적용된 18나노 공정과 재래식 조명법이 적용된 22나노의 공정을 지원하는 차세대...
값비싼 극자외선 노광기 대신 기존 장비로 공법 개량…삼성전자, 20나노 D램 벽을 넘었다 2014-03-11 21:53:49
asml(네덜란드)에 모두 64억달러를 투자했다. 최첨단 극자외선(euv) 노광기 개발을 위해 ‘울며 겨자 먹기’로 수조원씩 댄 것이었다. 회로선폭을 줄이는 d램 미세공정 기술이 20나노미터(㎚·1나노미터=10억분의 1ｍ)대에서 한계를 보이자 euv 노광기가 필요해진 탓이다. 그러나 개발 제품 가격이 대당 1000억원에 달하...
삼성, 메모리 반도체 물줄기 바꿨다…세계 첫 '수직적층'(V) 낸드 양산 2013-08-06 11:08:55
들어가는 극자외선 노광(euv) 장비가 불필요해 시설투자비도 줄어든다. 회사 관계자는 "v낸드 기술 개발로 앞으로 낸드플래시에서는 기존과 같은 대규모 투자는 줄어들 것으로 보인다"며 "1년 간은 화성 사업장에서 v낸드를 양산하고 이후에는 중국 시안 반도체 공장에도 이를 도입할 것"이라고 말했다. 삼성전자는...
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