"그래핀 대체할 반도체 신소재 넓게 제작"< IBS>

입력 2014-01-14 11:50  

IBS(기초과학연구원)는 원자제어저차원전자계연구단 최희철 그룹리더 연구진이 그래핀을 대체할 반도체 신소재로 주목받고 있는 ƈ차원 이황화몰리브덴(MoS₂)'을 대면적으로 제작할 수 있는 기술을 개발했다고 14일밝혔다.

MoS₂는 반도체성 층상 재료로, 그래핀과 유사한 구조를 갖고 있으나 전도체인그래핀과는 달리 반도체성을 지녀 태양전지, 저전력 트랜지스터, 플렉시블 디스플레이, 투명 전자소자 등에 사용된다.

연구진은 금 촉매를 이용해 MoS₂를 원하는 크기와 기하학적 형태로 균일하게합성하는 데 성공했다.

즉, 금 표면 위에 몰리브덴이 포함된 화합물을 주입하면 몰리브덴과 금이 섞여얇은 표면합금이 생기는데 여기에 황화수소를 첨가, 몰리브덴만 선택적으로 반응하도록 해 MoS₂를 분리하는 방법이다.

앞으로 굴절·투명 전자소자 등 차세대 반도체 산업에 적용할 수 있을 것으로기대된다.

이번 연구성과는 화학분야의 권위 있는 학술지인 '앙게반테 케미'(Angewandte Chemie)지 이날 자 온라인판과 1월호 표지논문에 실렸다.

jyoung@yna.co.kr(끝)<저 작 권 자(c)연 합 뉴 스. 무 단 전 재-재 배 포 금 지.>

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