"정부 R&D 특허 질적 수준 외국인보다 여전히 낮아"

입력 2015-12-22 12:01  

특허청 조사결과 발표…양적 성과·기술이전은 증가

정부 연구개발(R&D) 특허의 양적 성과와 기술이전 건수는 늘고 있지만, 질적 수준이 국내에 출원한 외국인에 비해 여전히 낮고 기술이전 규모도 크지 않은 것으로 나타났다.

특허청이 2010년 이후 5년간 정부 R&D 사업으로 창출된 특허성과의 양적·질적수준과 활용실태, 관리현황 등을 분석해 22일 발표한 결과에 따르면 정부 R&D 사업으로 나온 국내 특허출원은 지난해 2만7천5건으로 전체 특허출원(21만288건)의 12.8%를 차지했다.

최근 5년간 연평균 10.7%씩 증가해 전체 특허출원 증가율(5.4%)의 2배에 달했다.

연구개발비 10억원당 특허출원 수를 나타내는 특허생산성도 1.53으로 미국(공공연구소 0.26) 및 일본(대학 0.33)에 비해 매우 높았다.

하지만 특허의 질적 수준은 여전히 낮았다.

최근 5년간 등록특허를 분석한 결과, 정부 R&D 우수특허(상위 3등급) 비율은 국내에 출원한 외국인의 30% 수준이었다.

특허성과의 기술이전 건수는 지난해 2천96건으로 최근 5년간 연평균 17.7%씩 증가했다.

다만 1천만원 미만의 소액 기술이전이 연평균 25.6%로 빠르게 늘고, 계약당 기술이전 금액은 감소 추세여서 개선대책이 필요한 것으로 분석됐다.

최근 5년간 개인명의로 신고된 특허성과 2천301건에 대한 범부처 실태조사에서연구기관 명의로 권리환원이 필요한 968건을 확인했고, 해당 건은 관련 기관에서 명의변경을 실시했다.

특허등록 후 연차별 관리현황을 분석한 결과 정부 R&D 특허유지율은 민간과 비교하면 등록 후 4∼8년까지는 높지만, 연차료 부담이 증가하는 7∼9년차에 다수의특허가 포기돼, 9년차부터는 민간의 특허유지율과 역전되는 것으로 조사됐다.

특허청은 이번 정부 R&D 특허성과 분석결과를 바탕으로 지원사업을 개선하고 내년에도 다양한 지원정책을 추진한다.

기술개발 후 특허출원 준비과정에서 우수기술을 선별해 전략적으로 권리화하는'정부 R&D 특허설계 지원' 프로그램을 도입한다.

R&D 부처는 출원성과만 수집하고, 출원성과가 등록되면 특허청이 확인해 R&D 부처로 제공하는 특허성과 수집체계 개선을 추진한다.

국가연구개발 사업성과가 사적으로 유용되지 않도록 관리를 대폭 강화한다.

부당한 개인명의 특허 보유자의 R&D 사업참여 제한을 현행 1년에서 2년으로 강화하고, 개인명의 특허현황을 정기적으로 모니터링한다.

이번 특허성과 조사·분석 결과는 내년 초 보고서로 발간해 특허청 홈페이지(www.kipo.go.kr)와 정부 R&D 특허성과 관리시스템(www.rndip.or.kr)에서 누구든지 확인할 수 있도록 공개할 예정이다.

yej@yna.co.kr(끝)<저 작 권 자(c)연 합 뉴 스. 무 단 전 재-재 배 포 금 지.>

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