KAIST, 신경세포 안정적으로 배양할 수 있는 소재 개발

학부생 참여 프로그램 통해 성과…알츠하이머·파킨슨병 연구

KAIST(한국과학기술원)는 생명과학과 전상용 교수와 생명화학공학과 임성갑 교수 공동 연구팀이 신경세포를 안정적으로 배양할 수있는 고분자 박막 소재를 개발했다고 17일 밝혔다.

이번 연구에는 KAIST의 '학부생 연구 참여 프로그램'(URP)을 통해 유승윤 학생(제1저자)이 참여했다.

알츠하이머, 파킨슨병, 헌팅턴병 등 신경퇴행성 질환 연구를 위해서는 신경세포배양이 필수적이다.

신경퇴행성 질환은 노인성·퇴행성이기 때문에 신경세포가 오래됐을 때 일어나는 현상을 지켜봐야 하는데, 퇴행 상태가 되기 전 세포가 사멸해 버려 관찰이 어려웠다.

기존 특정 수용성 고분자(PLL)를 배양접시 위에 코팅한 뒤 신경세포를 배양하는방법은 안정적인 배양이 불가능하다는 단점이 있다.

연구팀은 기체상 공정인 '개시제를 이용한 화학 기상 증착법'(iCVD)을 이용해신경세포를 장기적으로 배양할 수 있는 기능을 가진 고분자 박막을 합성하는 데 성공했다.

iCVD는 기체 상태의 반응물을 이용해 고분자를 박막 형태로 합성하는 방법이다.

이 고분자 박막은 신경전달물질로 알려진 아세틸콜린과 유사한 물질로 돼 있는데, 이 박막에서 배양한 신경세포는 기존 신경세포에 비해 전기생리학적·신경전달기능이 우수한 것으로 나타났다.

전상용 교수는 "앞으로 신경세포를 이용한 바이오센서와 신경세포 칩 개발 등에활용할 수 있을 것"이라고 기대했다.

백지응 박사과정·최민석 박사가 공동 1저자로 참여한 이번 연구 성과는 나노분야 학술지 '에이시에스 나노'(ACS Nano) 지난달 28일자 온라인판에 실렸다.

jyoung@yna.co.kr(끝)<저 작 권 자(c)연 합 뉴 스. 무 단 전 재-재 배 포 금 지.>