테스는 기판처리장치와 관련한 특허를 취득했다고 18일 공시했다.
회사측은 "이번 특허는 기판의 처리를 위해 챔버의 내부의 온도를 상승시켰을 때 다른 부위에 비해 챔버의 게이트 및 배기공 인근에서 온도가 낮아지는 것을 보완할 수 있는 기판 처리 장치에 관한 것"이라며 "챔버 내부의 온도를 균일하게 상승시킬 수 있어 챔버 내부의 기류가 안정됨에 따라 박막의 증착 및 식각 공정을 균일하게 진행시킬 수 있는 효과가 있다"고 설명했다.
회사측은 "이번 특허는 기판의 처리를 위해 챔버의 내부의 온도를 상승시켰을 때 다른 부위에 비해 챔버의 게이트 및 배기공 인근에서 온도가 낮아지는 것을 보완할 수 있는 기판 처리 장치에 관한 것"이라며 "챔버 내부의 온도를 균일하게 상승시킬 수 있어 챔버 내부의 기류가 안정됨에 따라 박막의 증착 및 식각 공정을 균일하게 진행시킬 수 있는 효과가 있다"고 설명했다.
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