석촌 '싱크홀', 원인 공개…"지하철 공사, 쉴드 공법 문제"

주민들을 두려움에 떨게 했던 `석촌 싱크홀` 중간조사 결과가 발표됐다. "해당 구역은 충적층, 쉴드 공법이 원인"

14일, 서울시는 지난 5일 석촌지하차도에서 발견된 폭 2.5m, 깊이 5m, 연장 8m의 싱크홀에 대한 전문가 조사단의 중간 조사 결과를 공개했다.

조사 결과 서울 석촌지하차도 앞에서 발생한 싱크홀은 지하철 9호선 3단계 건설을 위한 터널 공사가 원인이라는 1차 조사결과가 나왔다고 밝혔다.

서울시와 조사단 의견에 따르면 "중간 조사 결과, 지하철 9호선 3단계 건설을 위해 석촌지하차도 하부를 통과하는 쉴드(Shield) 터널 공사가 싱크홀의 원인으로 추정된다"고 전했다.

터널 굴착 방법 중 하나인 쉴드 공법은 원통형 쉴드를 회전시켜 흙과 바위를 부수면서 수평으로 굴을 파고들어가는 것으로 회전시키는 힘과 마찰에 의해 지반에 엄청난 충격이 간다.

이에 조사단은 지하수에 취약한 충적층이 두껍게 자리한 구간으로 지하수 수위의 변동에 따라 침하가 발생할 가능성이 크다며 `싱크홀` 원인을 예측했다.

한편, 해당 소식을 접한 누리꾼들은 "석촌 지하차도 문제가 많네", "석촌 지하차도, 서울시의 조치가 필요하다", "롯데월드와 싱크홀 연관성 진짜 없나" 등 다양한 반응을 보였다.