한·중·일 캐릭터 디자인보호 모색 포럼 16일 열려

한·중·일 캐릭터 디자인보호 모색 포럼 16일 열려

특허청 '한·중·일 디자인 포럼' 개최

(대전=연합뉴스) 유의주 기자 = 특허청은 중국, 일본 특허청과 공동으로 오는 16일 서울 강남구 역삼동 한국과학기술회관 SC 컨벤션센터에서 '한·중·일 디자인 포럼'을 개최한다고 10일 밝혔다.


올해로 8회째인 이 포럼은 한국과 중국, 일본의 특허청 관계자들이 디자인보호 관련 현안과 해결방안을 논의하기 위해 결성했으며, 매년 3국이 순차적으로 개최한다.

'캐릭터 디자인의 보호'를 주제로 열리는 올해 포럼에는 3국 캐릭터 업계의 최근 실태를 진단하고 대안을 모색하며, 캐릭터의 법적 보호를 위해 디자이너 등이 숙지해야 할 지식재산권 정보들을 소개할 예정이다.

지재권을 통한 캐릭터 디자인의 보호, 중국의 만화이미지 디자인의 보호와 일본 캐릭터의 법적 보호, 기업의 캐릭터 지식재산(IP) 침해와 대응사례, 중국 캐릭터산업과 지식재산권 유통 및 이용실태, 일본 애니메이션의 해외진출 등의 주제에 대한 전문가들의 발표와 토론이 이어진다.

포럼은 모두 동시통역으로 진행되며, 참가자들의 궁금증을 해소하기 위해 현장에서 질의·응답 시간도 마련된다.

디자이너, 기업 지재권 담당자, 변리사 등 캐릭터 디자인 보호에 관심 있는 사람이라면 누구든지 특허청 홈페이지(www.kipo.go.kr)에서 무료로 참가 신청할 수 있다.

최규완 특허청 상표디자인심사국장은 "4차 산업혁명 시대를 맞아 기계로 대체될 수 없는 인간의 창조 활동, 특히 캐릭터 디자인과 같은 문화산업은 미래에 더 가치가 높아질 것"이라며 "포럼을 통해 캐릭터 디자인의 권리보호 인식이 널리 확산해 건전한 창작활동 분위기 조성에 도움이 되기를 바란다"고 말했다.

yej@yna.co.kr

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