-- 세미콘 코리아 참가
(헤이워드, 캘리포니아주 2020년 1월 16일 PRNewswire=연합뉴스) 울트라 클린 홀딩스(Ultra Clean Holdings, Inc., 나스닥: UCTT)는 오늘, 자사 서비스 사업인 켐트레이스(ChemTrace)가 어떻게 미세오염 분석 검사가 웨이퍼 팹과 OEM의 CoO(소유 비용)를 줄일 수 있는지 보여줄 예정이라는 소식을 전했다. 켐트레이스는 2020년 2월 5일에서 7일까지 서울 코엑스에서 개최되는 2020 세미콘 코리아(SEMICON Korea 2020)의 부스 B524에 참가해 해당 솔루션들을 선보일 계획이다.
"점점 더 많은 고객이 미세오염 제어 및 위험관리를 최적화해 팹 결과를 개선하는 분석 기술의 이점을 인식하고 있다" 면서 "세미콘 코리아의 분석 솔루션이 고객들의 요구사항을 진정으로 만족시키고 강력한 오염 모니터링 프로그램들을 지원할 수 있도록, 울트라 클린 홀딩스의 광범위한 참여가 어떻게 접근 방식을 사용자 정의할 수 있는지를 보여주게 되어 기쁘고 기대된다"고 울트라 클린 홀딩스의 반도체 서비스 비즈니스 담당 대표(President)인 빌 벤틴크(Bill Bentinck)는 전했다.
세미콘 코리아에서는, 켐트레이스의 우수한 자격을 갖춘 화학자, 엔지니어, 기술자들이 고객들과 긴밀하게 협력해 챔버 부품, 웨이퍼/증착물, 화학물질, 청정실 재료들, 물 및 공기 중의 분자 오염에 대한 미세오염 분석을 안정적으로 제공하는 방법에 대해 논의한다.
울트라 클린 홀딩스(Ultra Clean Holdings, Inc.)
울트라 클린 홀딩스는 주로 반도체 산업을 위한 주요 서브 시스템, 초고순도 세척 및 분석 서비스들의 선두 개발업체이자 공급업체다. 울트라 클린은 고객들에게 주요 서브어셈블리, 개선된 설계-배송주기 시간, 제조 가능성, 프로토 타이핑 및 부품 제조, 툴 챔버 부품 세척 및 코팅, 미세 오염 분석 서비스를 위한 통합 아웃소싱 솔루션을 제공한다. 울트라 클린은 캘리포니아주, 헤이워드에 본사를 두고 있다. 관련 추가 정보는 당사 웹페이지(www.uct.com)를 방문하면 확인할 수 있다.
미래 예측성 진술들(Forward-looking Statements)
본 보도자료는, 미래 사건과 재무 성과에 대한 당사의 현재 견해를 반영하는 (1995년 미국 민간증권소송 개정법에 의거) "미래 예측성 진술들"을 포함하고 있다. "기대하다," "예상하다," "전망하다," "예측하다," "믿다," "계획하다," "기대하다," "미래," "의도하다," "~일 수 있다," "~일 것이다," "추측하다," "보다," "예견하다," 및 이와 유사한 표현들은 미래 예측성 진술들을 식별하는 표현들이다. 본 보도자료에 포함된 미래 예측성 진술들은 이사회에 대한 세토(Ms. Seto)의 공헌에 대한 당사의 기대들도 포함한다. 모든 미래 예측성 진술들은 위험성과 불확실성을 내포하고 있다. 따라서 미래에 실제 발생할 결과는, 본 보도자료에서 미래 예측성 진술들에 의해 예측 및 암시된 결과와 실질적으로 상이할 수 있다. 이러한 위험성, 불확실성 및 기타 요인들은 "위험 요인들(Management's Discussion and Analysis of Financial Condition and Results of Operations)"과 "재무 상태 및 운영 결과에 대한 관리 토론 및 분석(Management's Discussion and Analysis of Financial Condition and Results of Operations)" 그리고 2018년 12월 28일 증권 거래위원회에 제출된 폼 10-K 연례 보고서와 이어 제출된 폼 10-Q에 분기 보고서에 상세하게 기재되어 있다. 울트라 클린 홀딩스는 새로운 정보, 미래 개발 또는 기타 사항들에 대해 법이 요구하지 않는 한 본 보도자료의 미래 예측성 진술들을 공개적으로 갱신 및 검토할 의무를 지지 아니한다.
문의:
론다 베네토(Rhonda Bennetto)
투자 관계 담당 부대표(Vice President Investor Relations)
rbennetto@uct.com
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출처: Ultra Clean Holdings, Inc.
ChemTrace Shows How Micro-Contamination Control Improves Fab Results at SEMICON Korea
HAYWARD, California, Jan. 15, 2020 /PRNewswire/ -- Ultra Clean Holdings, Inc. (Nasdaq: UCTT), today announced that its Services Business, ChemTrace, will demonstrate how its micro-contamination analytical testing can help reduce Cost of Ownership (CoO) for wafer fabs and OEMs. ChemTrace will showcase these solutions at booth B524 at SEMICON Korea 2020 at the COEX in Seoul, February 5 - 7, 2020.
"Customers are increasingly recognizing the advantage of our analytical technology that optimizes micro-contamination control and risk management to improve fab results," said Bill Bentinck, President, UCTT Semiconductor Services Business. "We are excited to demonstrate how our broad-based engagements enable us to customize our approach ensuring our analytical solutions truly address customers' requirements and support robust contamination monitoring programs at SEMICON Korea."
Our representatives will discuss how ChemTrace's highly qualified chemists, engineers and technologists engage closely with customers to reliably provide micro-contamination analysis of chamber parts, wafers/depositions, chemicals, cleanroom materials, water and airborne molecular contamination.
About Ultra Clean Holdings, Inc.
Ultra Clean Holdings, Inc. is a leading developer and supplier of critical subsystems, ultra-high purity cleaning and analytical services primarily for the semiconductor industry. Ultra Clean offers its customers an integrated outsourced solution for major subassemblies, improved design-to-delivery cycle times, design for manufacturability, prototyping and component manufacturing, and tool chamber parts cleaning and coating, as well as microcontamination analytical services. Ultra Clean is headquartered in Hayward, California. Additional information is available at www.uct.com.
Forward-looking Statements
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Contact:
Rhonda Bennetto
Vice President Investor Relations
rbennetto@uct.com
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QuantumClean ChemTrace Logo
Source: Ultra Clean Holdings, Inc.
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