KIST "광소자 표면에 3차원 그래핀 균일 합성 기술 개발"

KIST "광소자 표면에 3차원 그래핀 균일 합성 기술 개발"


(서울=연합뉴스) 오수진 기자 = 국내 연구진이 그래핀 결정의 결손 없이 광소자의 미세구조 표면에 3차원 그래핀을 균일하게 합성하는 기술을 개발했다.
한국과학기술연구원(KIST)은 광전소재연구단 송용원 박사팀이 한국기계연구원 최지연 박사팀과 공동 연구로 전사(transfer) 과정 없이 광소자의 미세구조 표면에 3차원 그래핀을 균일하게 합성하고 해당 공정을 광소자에 응용해 기술 효용성을 검증했다고 8일 밝혔다.
전기 신호 대신 빛으로 데이터를 처리하는 광소자는 실리콘 반도체를 대체할 초고속 컴퓨팅 기술 중 하나로 주목받는다.
송 박사는 이번 연구에 대해 "미래 광컴퓨팅뿐만 아니라 전자소자와 광소자 융합을 통한 첨단 기술 선도에 중요한 역할을 할 것"이라는 기대를 밝혔다.
이번 연구는 나노기술 분야 국제 저널인 미국 화학회(ACS) 학술지인 'ACS 나노'(ACS Nano) 최근 호에 게재됐다.
kiki@yna.co.kr
(끝)


<저작권자(c) 연합뉴스, 무단 전재-재배포 금지>