AMAT, 새로운 전자빔 계측 시스템 '베리티SEM 10' 발표

AMAT, 새로운 전자빔 계측 시스템 '베리티SEM 10' 발표
반도체 디바이스 소자 패턴 거리 정밀 측정…생산 수율 극대화



(서울=연합뉴스) 김아람 기자 = 세계 1위 반도체·디스플레이 장비 기업 어플라이드 머티어리얼즈(AMAT)가 새로운 전자빔 계측 시스템 '베리티SEM 10'을 공개했다.
어플라이드 머티어리얼즈 코리아는 24일 온라인 기자간담회를 열어 패터닝 혁신 기술을 소개했다. 패터닝은 웨이퍼 위에 회로를 만드는 반도체 전공정에 해당한다.
리소그래피(반도체 기판에 집적회로를 만드는 기술) 스캐너가 마스크에서 포토레지스트로 패턴을 형성하면, 패턴 거리 측정 주사전자현미경(CD-SEM)을 사용해 이를 서브 나노미터(0.1 나노미터) 단위로 계측한다.
베리티SEM 10은 이 CD-SEM 분야 기술이다. EUV(극자외선) 및 차세대 하이 뉴메리컬어퍼처(High NA) EUV 리소그래피 공정으로 패터닝한 반도체 디바이스 소자의 패턴 거리를 정밀하게 측정하도록 설계됐다.
새로운 시스템은 기존보다 분해능이 2배 높고 스캔 속도가 30% 빨라 반도체 제조사들이 공정 개발을 가속하고 대량 생산 수율을 극대화할 수 있다.
반도체 디바이스 소자의 패턴 거리 측정은 특히 하이 NA 공정에서 포토레지스트 두께가 얇아지면서 점점 어려워지고 있다.
따라서 정확한 계측을 위해 CD-SEM이 극도로 얇은 포토레지스트가 점유한 좁은 공간에 얇은 전자빔을 정확하게 조사하는 기술이 필요하다고 회사 측은 설명했다.
반도체 제조사들은 게이트올어라운드(GAA) 로직 트랜지스터, 3D 낸드 메모리 등 의 패턴 거리 측정 애플리케이션에 베리티SEM 10을 활용할 수 있다.
키스 웰스 AMAT 이미징 및 공정제어 그룹 부사장은 "베리티SEM 10 시스템은 앞으로 업계 변곡점이 될 주요 기술의 계측 문제를 해결해 하이 NA EUV, GAA 트랜지스터, 고집적도 3D 낸드로 전환하는 과정에 도움이 될 것"이라고 말했다.
미국 실리콘밸리에 본사가 있는 AMAT는 삼성전자[005930]와 SK하이닉스[000660] 등을 고객사로 뒀다. 세계 전자빔 시장 점유율 50% 이상을 차지한 전자빔 시스템 분야 최대 공급 업체다.
rice@yna.co.kr
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