회사 관계자는 “SDPCVD는 20나노미터(㎚) 이하 미세 반도체 공정에서 실리콘 산화막, 실리콘 질화막, 금속막 등 모든 화학증착 공정 장비를 대체할 수 있는 혁신적인 장비”라고 자평했다.
김병근 기자 bk11@hankyung.com
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