테스, 대면적 기판 처리 장치 특허 취득

테스는 대면적 기판 처리 장치 관련 특허를 취득했다고 28일 공시했다.

회사 측은 "기판 대면적화에 따른 반응 챔버의 공간적 제약을 제거할 수 있는 기술"이라며 "특허기술을 적용해 신규 장비 경쟁력을 강화할 것"이라고 밝혔다.

한경닷컴 오정민 기자 blooming@hankyung.com




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