테스, 비정질 탄소막 형성방법 특허권 취득

입력 2013-08-30 13:36  

테스는 비정질 탄소막 형성 방법에 관한 특허권을 취득했다고 30일 공시했다.

회사 측은 "이번 발명으로 내식각성이 향상된 비정질탄소막을 형성해 식각의 효율성을 높일 수 있다"며 "장비 제조 시 적용해 제품 경쟁력을 강화할 예정"이라고 밝혔다.

한경닷컴 강지연 기자 alice@hankyung.com




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