에스앤에스텍, 포토마스크 관련 특허권 취득

에스앤에스텍은 4일 블랭마스크와 포토마스크의 제조방법 관련 특허권을 취득했다고 공시했다.

에스앤에스택은 "하드마스크막을 이용해 선형성 개선, 금속막의 수식 패턴 등이 가능해지는 제조방법"이라고 전했다.

한경닷컴 이지현 기자 edith@hankyung.com




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