한국테크놀로지, 석탄건조장치에서의 재열증기 분산 분사 장치 등 특허권 4개 취득

입력 2015-06-02 15:27  

[ 채선희 기자 ] 한국테크놀로지는 석탄 건조 장치에서의 재열증기 분산 분사 장치를 포함해 4개의 특허권을 취득했다고 2일 공시했다.

나머지 특허는 석탄 건조 장치에서의 이송 석탄 부하 감소를 위한 다단 평탄화 장치와 재열증기를 이용한 석탄 건조 장치에서의 이송 석탄의 고른 건조를 위한 정렬 장치, 석탄 건조 장치에서의 이송플레이트에 고착된 석탄 잔류물 제거 장치다.

회사 측은 "국내외 석탄화력을 사용하는 발전소, 기업을 상대로 고수분 저급석탄의 고품위화(석탄 업그레이드) 설비 납품시 이번 특허기술을 활용할 계획"이라고 말했다.

채선희 한경닷컴 기자 csun00@hankyung.com



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