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"칩4 참여는 불가피한 선택…日·대만 공식 선언 때까지 기다려라" [박신영의 반도체 패권전쟁] 2022-08-09 17:04:28
노광장비는 불화아르곤(ArF)을 광원으로 사용하는데 EUV보다 한 세대 뒤진 것이지만 자동차 스마트폰 PC 등에 탑재되는 반도체를 생산할 때 가장 많이 활용한다. 중국의 반도체산업은 미국의 견제로 직격탄을 맞았다. 중국 베이징대 국제전략연구소는 올초 발표한 보고서에서 “중·미 간 과학기술 디커플링 이후 양국이...
[IPO 기업분석]영창케미칼, EUV 린스 국산화로 독일 머크에 도전장 2022-07-04 14:11:11
광원으로 패턴을 새기는 작업을 말한다. 기존에는 불화아르곤(ArF) 광원을 사용했지만, 최근에는 이보다 파장의 길이가 14분의 1인 EUV를 사용하는 공정이 늘어나는 추세다. EUV를 사용하면 반도체 회로 패턴을 세밀하게 제작해 고성능 제품을 만들 수 있고 공정 수를 줄여 생산성도 높아진다. 영창케미칼이 개발한 EUV...
영창케미칼, 코스닥 상장 예비심사 통과…소부장 특례 추진 2022-05-13 09:45:30
첫 제품인 ‘ArF(불화아르곤) 및 KrF(불화크립톤) 광원용 포토레지스트 린스’를 개발 및 양산하는 데 성공하면서 사업이 본궤도에 올라섰으며, 현재 주요 제품으로 포토레지스트, 유기 하드 마스크(HT-SOC), 슬러리, 린싱 솔루션, 디벨로퍼, 스트리퍼 등을 생산하고 있다. 영창케미칼은 반도체 산업용 소재 포토레지스트를...
EUV용 포토레지스트 상용화 눈앞…동진쎄미켐, 소부장 국산화 '마침표' 2022-04-04 17:09:56
따라 불화크립톤(KrF·248㎚) 불화아르곤(ArF·193㎚) 극자외선(13.5㎚)용으로 구분된다. 파장이 짧을수록 미세 공정에 유리하다. 불화수소, 플루오린폴리이미드와 달리 EUV용 포토레지스트는 국산화가 쉽게 진척되지 않았다. 일본산 포토레지스트 수입량은 2019년 861t(2억6842만달러)에서 2021년 954t(3억6723만달러)으로...
소부장 '탈일본' 눈앞…국산화 최후의 난제 풀었다 2022-04-04 14:00:00
단계인 불화아르곤(ArF)포토레지스트에 대한 성능평가 역량을 확보했다. 2020년에는 이 대표가 직접 벨기에를 방문해 아이멕과 협력관계를 구축하는 데 성공했다. 포토레지스트는 사용하는 노광장비 광원의 파장에 따라 불화크립톤(KrF·248㎚), 불화아르곤(ArF·193㎚), 극자외선(13.5㎚)용으로 구분된다. 파장이 짧을수록...
반도체 EUV공정 핵심 원료…국내 中企, 첫 상용화 성공 2022-02-20 17:07:10
초고순도로 제조된다. 이전 세대인 불화아르곤 공정에는 99.99%의 PGMEA가 필요했다. 지금까지 국내에는 PGMEA의 순도를 높이는 정제 기술은 있었지만 전 단계인 PGME(프로필렌글리콜모노메틸에테르)를 PGMEA로 합성하는 기술은 없었다. 일본에서 초고순도 PGMEA를 수입하거나 중국에서 순도가 떨어지는 PGMEA를 수입한 뒤...
EUV 공정 핵심 원재료 첫 국산화 성공…日·中의존도 낮춘다 2022-02-18 14:05:06
제조된다. 이전 세대인 불화아르곤 공정에는 순도 99.99%의 PGMEA가 필요했다. 지금까지 국내에는 PGMEA의 순도를 높이는 정제기술은 있었지만 전 단계인 PGME(프로필렌글리콜모노메틸에테르)를 PGMEA로 합성하는 기술은 없었다. 이 때문에 일본에서 초고순도 PGMEA를 수입하거나 중국에서 순도가 떨어지는 PGMEA를 수입한...
멜콘 "차세대 반도체 공정에 온습도 조절기 독점 공급" 2021-12-23 17:57:40
불화아르곤(ArF) 광원보다 더 미세한 회로를 그릴 수 있어 글로벌 반도체 제조업체들이 앞다퉈 투자를 늘리고 있는 첨단 분야다. 삼성전자가 내년 신규 반도체 파운드리 공장으로 평택 3라인 등을 완공할 계획이어서 관련 수요는 계속 늘어날 전망이다. 멜콘의 매출도 꾸준히 우상향하는 추세다. 지난해 286억원을 기록한...
미중 반도체 패권경쟁, 국내기업에 불똥…中공장 첨단장비 반입 제동 2021-11-18 11:13:08
극자외선 파장의 광원을 사용하는 작업이다. 기존 불화아르곤(ArF)의 광원보다 파장의 길이가 짧아(10분의 1 미만) 반도체에 미세회로 패턴을 구현할 때 유리하고 성능과 생산성도 높일 수 있는 최첨단 공정이다. SK하이닉스는 올해 처음으로 이 장비를 경기도 이천 공장에 도입했다. 또한 ASML과는 2025년 12월 1일까지...
3개월 만에 7조 벌었다…이재용도 줄세운 '그 회사' 초대박 2021-10-20 20:00:02
기존 불화아르곤(ArF) 대비 약 14배 파장이 짧아 미세 회로를 그리는 데 적합하다는 평가를 받는다. 향후 10년간 반도체 투자는 EUV 노광기 중심으로 돌아간다고 해도 과언이 아니라는 게 반도체 업계 중론이다. 삼성전자도 파운드리 분야 TSMC와의 경쟁에서 고객사를 끌어오려면 해당 장비의 안정적 공급이 필수다. 하지만...