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삼성전자·SK하이닉스, 美 'FMS 2024'서 AI 메모리 대거 공개 2024-08-08 16:04:31
스마트폰과 SSD 등에 사용되는 9세대 V낸드는 '더블 스택'(2층) 구조로는 처음 300단 가까이 쌓아 올린 제품이다. 짐 앨리엇 삼성전자 디바이스솔루션(DS) 부문 미주총괄 부사장은 6일(현지시간) 키노트 연설에서 "AI 발전을 위해서는 메모리 반도체의 성장이 함께 이뤄져야 한다"며 "삼성전자는 끊임없는 연구개발...
덴티움, '고온수전해 핵심소재 및 부품 개발' 국책사업 수행기관 선정 2024-06-27 15:11:04
담당하며 제노스, 케이세라셀, 범한퓨얼셀이 각 세부과제 별 주관기업으로 참여할 예정이다. 각 세부과제는 원료 분말 및 전해질 기판 개발(1세부), 셀/전극 소재 및 제조 기술 개발(2세부) 및 스택 평가/진단 기술 개발(3세부)로 구성되어 고품위 지르코니아 기반 원료 세라믹 소재를 국산화하고 전해질지지형 고온수전해...
삼성전자 "하반기 중 QLC 낸드 빠르게 개발…AI 시장 대응" 2024-05-21 08:51:18
셀과 최소 몰드(셀을 동작시키는 층) 두께가 구현돼 이전 세대보다 약 1.5배 높은 비트 밀도를 갖췄다. 홍승완 플래시개발실 부사장은 "낸드는 고용량, 고성능 요구에 부합하는 방향으로 기술이 발전되고 있다"며 "이를 지원하기 위해 스택 당 고종횡비(HARC) 식각 공정 수를 최소화하는 기술, 고성능 소자 제조를 위한...
삼성, 메모리 초격차 굳힌다…286단 V낸드 세계 첫 양산 2024-04-23 18:41:57
더블 스택 적층 기술을 활용했다는 점이다. 더블의 의미는 쌓아 올린 저장공간인 셀을 전기적으로 연결하는 ‘채널 홀’을 두 번 뚫는다는 뜻이다. 채널 홀을 적게 뚫을수록 생산성이 높아진다. 한동안 업계에서는 기술적 한계로 300단 안팎의 제품을 제조하려면 ‘트리플 스택’을 쓸 수밖에 없다는 관측을 내놨었다. 삼성...
삼성전자, 또 해냈다…업계 최고 286단 낸드플래시 첫 양산 2024-04-23 17:39:00
점은 ‘더블 스택’ 적층 기술을 활용했다는 점이다. ‘더블’의 의미는 쌓아 올린 저장공간인 셀을 전기적으로 연결하는 ‘채널 홀’을 두 번 뚫는다는 것이다. 채널 홀을 뚫는 횟수가 적을수록 기업들의 생산성이 높아진다. 구멍을 두 번에 걸쳐 뚫는 비용이 같은 작업을 세 번, 네 번 반복하는 것보다 적기 때문이다....
삼성전자, 업계 최초 '9세대 V낸드' 양산…"AI시대 SSD 시장 선도" 2024-04-23 14:42:48
Level Cell) V(수직) 낸드플래시’를 양산한다. 셀(저장공간)을 최대 단수로 쌓아 올려 한 번에 채널 홀을 뚫는 최첨단 신기술로 저장 용량을 키울 뿐 아니라 생산성까지 높인 게 핵심이다. 삼성전자는 업계 최초로 9세대 V낸드 양산을 시작한다고 23일 밝혔다. 하나의 셀에 3비트(bit) 데이터를 기록할 수 있는 TLC...
회심의 V낸드 나왔다…최대로 쌓아올려 한번에 뚫는 '삼성 기술력' 2024-04-23 11:18:36
있는 구조) V(수직) 낸드플래시’를 양산한다. 셀(저장공간)을 최대 단수로 쌓아 올려 한 번에 채널 홀(전자가 이동하는 구멍)을 뚫는 최첨단 신기술로 저장 용량을 키울 뿐 아니라 생산성까지 높인 게 핵심이다. 삼성전자는 업계 최초로 9세대 V낸드 양산을 시작한다고 23일 밝혔다. 업계 최소 크기 셀과 최소 몰드(Mold)...
삼성전자, 업계 최초 '9세대 V낸드' 양산…낸드 리더십 강화 2024-04-23 11:02:37
공정으로 단수를 쌓아 올리는 것이 핵심으로, 스택 수가 적을수록 거쳐야 하는 공정 수도 줄기 때문에 시간과 비용을 줄일 수 있어 경쟁력이 높다. 삼성전자는 업계 최소 크기 셀(Cell), 최소 몰드(Mold) 두께를 구현해 '1Tb TLC 9세대 V낸드'의 비트 밀도(단위 면적당 저장되는 비트의 수)를 이전 세대 대비 약...
'낸드플래시 봄' 왔다…적층 경쟁 나선 반도체업계 2024-04-10 20:38:00
삼성전자 V9에서 주목할 점은 ‘더블 스택’ 기술을 활용한다는 것이다. 더블의 의미는 쌓아 올린 저장 공간인 셀을 전기적으로 연결하는 ‘채널 홀’을 두 번 뚫는다는 것이다. 채널 홀을 뚫는 횟수가 적을수록 기업의 생산성이 높아진다. 구멍을 두 번에 걸쳐 뚫는 비용이 같은 작업을 세 번, 네 번 반복하는 것보다 적기...
"낸드플래시 봄이 왔다"…삼성 신무기로 '한계 도전' 2024-04-10 16:51:16
주목할 점은 ‘더블 스택’ 기술을 활용한다는 점이다. ‘더블’의 의미는 쌓아 올린 저장공간인 셀을 전기적으로 연결하는 ‘채널 홀’을 두 번 뚫는다는 것이다. 채널 홀을 뚫는 횟수가 적을수록 기업들의 생산성이 높아진다. 구멍을 두 번에 걸쳐 뚫는 비용이 같은 작업을 세 번, 네 번 반복하는 것보다 적기 때문이다....