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제1회 '백남賞'에 박희재 교수·박영희 작곡가 2013-09-25 17:58:07
올해 제정된 ‘제1회 백남상’ 수상자로 박희재 서울대 교수(53·공학상)와 박영희 작곡가(69·전 독일 브레멘국립예술대 교수·음악상)가 선정됐다. 또 인권봉사상엔 유니세프 한국위원회(사무총장 오종남)가 뽑혔다. 백남기념사업회(이사장 김종량)는 ‘백남상’ 첫 수상자를 부문별로 이같이 결정했다고 25일 발표했다....
삼성전자, 중국 반도체 후공정라인 5억弗 투자 2013-09-12 18:15:31
1월 착공에 들어가며, 현재 건설 중인 반도체 공장 인근에 위치하게 된다. 이번 투자로 삼성전자의 시안 반도체 설비 관련 투자액은 총 75억달러 규모로늘어나게 됐다. 삼성전자는 지난해 9월 내년 가동을 목표로 70억달러를 들여 시안에 10나노미터(nm·1nm=10억분의 1ｍ)급 낸드플래시 생산 공장을 건설하기...
'꿈의 신소재' 그래핀, 특허전쟁 불붙었다 2013-08-25 16:50:38
탁월삼성 모바일기기 등 적용 급증 특허신청 1만건…상용화 가속 ‘꿈의 소재’로 불리는 ‘그래핀’을 두고 특허 전쟁이 한창이다. 그래핀은 연필심의 원료인 흑연을 가장 얇게 한 겹 떼어낸 신물질이다. 0.34nm(나노미터·머리카락 굵기의 10만분의 1) 크기로 눈에 보이지 않을 정도로 얇고 투명하지만 성능은 상상을...
"나노선 자유자재로 대량생산"< KAIST> 2013-08-22 10:24:59
공동으로 폭이 수십 나노미터(㎚,10억분의 1ｍ)에 달하는 매우 얇은 나노선을 대량 생산할 수 있는 기술을 개발했다고 22일 밝혔다. 긴 선 모양의 나노선은 다양한 열적, 전기적, 기계적 특성이 있어 반도체, 에너지, 생체소자, 광학소자 등 다양한 분야의 첨단 소재로 각광받고 있다. 하지만 수 밀리미터를...
삼성전자, 'V-낸드' 탑재 고성능 SSD 첫선 2013-08-15 06:03:16
미국 산타클라라에서 개최된 '플래시메모리 서밋 2013' 행사에서 V-낸드가 탑재된 1TB(테라바이트)급 서버용SSD인 鰘GB(기가바이트) SM843T SSD'와 騸GB SM843T SSD'를 공개했다. 이들 제품은 삼성전자가 최근 양산을 시작한 128Gb(기가비트) MLC(멀티레벨셀)3D V-낸드를 사용해 기존...
DNA-그래핀 합성물질로 연료전지 촉매 향상 2013-08-13 22:32:54
백금 입자로 표면적을 늘려야 하는데, 극미세 나노 입자를 균일하게 분산시켜 입자들이 서로 뭉치는 것을 방지하는 것이 연구자들의 숙제였다. 연구팀은 dna와 그래핀으로 만든 물질에 1나노미터(㎚) 크기의 미세한 백금 입자를 균일하게 분산시킨 복합체 물질을 합성하는 데 성공했다. 백금 이온이 dna 사슬의 인산뼈대...
흑연 나노입자로 순수한 그래핀 양자점 개발< KAIST> 2013-08-07 10:18:33
나노미터(㎚,10억분의 1ｍ) 크기 구 형태의 반도체 나노입자로, 높은 효율과 빠른 광자 방출 등으로 차세대 양자정보 통신 기술로 주목받고 있다. 특히 반도체 분야 신소재인 그래핀을 이용해 만들어진 양자점은 흑연으로 제작돼 인체에 해가 없기 때문에 바이오센서, 광센서, 바이오 이미징 등 다양한 분야에적용할...
삼성전자, 반도체 사업 새지평 2013-08-06 18:26:17
나노미터, 사람 머리카락 굵기 5천분의 1에 해당하는 제품 대비 집적도가 2배 이상 높아졌습니다. <인터뷰> 최정혁 삼성전자 메모리사업부 플래시개발실장(전무) "10나노급 이하 반도체 기술의 한계를 뛰어넘어 앞으로 1테라비트(Tb) 이상의 낸드플래시를 출시할 수 있는 원천 기술을 확보, 낸드플래시 기술을 이끌어 나갈...
대규모 투자 나선 도시바 "삼성 따라잡겠다" 2013-08-06 17:09:22
현재의 19나노미터(1나노미터=10억분의 1ｍ)에서 16~17나노미터로 미세화한 제품을 만들어낼 예정이다. 니혼게이자이는 “도시바의 이번 투자는 메모리 반도체 분야 선두 주자인 삼성전자를 추격하기 위한 것”이라고 전했다. 도시바는 낸드(nand)형 플래시메모리 분야에서 삼성에 이어 세계 시장점유율 2위를 달리고...
<'단독주택'→'고층아파트' 칩 설계로 기술한계 극복> 2013-08-06 14:14:33
현재 회로 선폭이 사람 머리카락 굵기의 5천분의 1 크기인 20나노미터(nm·1nm = 10억분의 1ｍ)급 제품이 주력이고, 집적도를 2배로 높인 10나노급제품이 막 개발된 상태다. 하지만 배선 간격이 너무 좁아지자 셀 사이에 간섭 현상이 생기면서 미세화 기술은 한계에 부딪힌 상태다. 이런 상황에서 삼성전자는...
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