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삼성전자 SAIT, 차세대 소재 적용 시스템반도체 구현 성공 2023-06-01 12:11:21
연구진은 트랜지스터의 누설 전류를 막는 절연막에 활용되는 고유전 물질을 신소재인 강유전 물질로 대체하는 아이디어에 주목했다. 강유전 물질이 가진 특성을 이용하면 고유전 물질을 활용할 때와 비교해 누설 전류의 증가 없이 동작 전압만 감소시킬 수 있고, 결과적으로 트랜지스터의 소비 전력을 크게 줄일 수 있다....
SK하이닉스 서버용 D램 10나노급 인텔서 첫 검증 2023-05-30 18:01:26
D램 트랜지스터 내부의 절연막에 사용해 누설 전류를 막고 정전용량을 개선한 공정이다. D램의 속도를 빠르게 하면서도 소모 전력을 줄일 수 있는 게 특징으로 꼽힌다. 김종환 SK하이닉스 DRAM개발담당(부사장)은 “내년 상반기엔 1b 공정을 저전력 D램인 ‘LPDDR5T’, 차세대 고대역폭 메모리인 ‘HBM3E’로도 확대 적용할...
'1초에 풀HD 영화 10편처리'…SK하이닉스, 가장빠른 D램 개발 2023-05-30 09:35:30
높은 물질을 D램 트랜지스터 내부의 절연막에 사용해 누설 전류를 막고 정전용량을 개선한 차세대 공정으로, 속도를 빠르게 하면서도 소모 전력을 줄일 수 있는 것이 특징이다. SK하이닉스는 1b 기술 개발을 통해 높은 성능과 우수한 전력효율을 갖춘 D램 제품을 공급할 수 있게 될 것이라고 기대했다. SK하이닉스 김종환...
SK하이닉스 10나노급 5세대 DDR5, 인텔 호환성 검증 돌입 2023-05-30 09:16:42
유전율(K)이 높은 물질을 D램 트랜지스터 내부의 절연막에 사용해 누설 전류를 막고 정전용량을 개선한 차세대 공정을 말한다. SK하이닉스는 지난해 11월 모바일 D램에서 HKMG 공정을 세계 최초로 도입한 8.5Gbps LPDDR5X를 출시한 뒤, 올해 1월에는 9.6Gbps LPDDR5T 모바일 D램에도 HKMG 공정을 적용했다. SK하이닉스는...
[한경에세이] 용기란 무엇일까 2023-03-28 17:39:42
‘절연(絶緣)’만큼은 가장 용기 없는 자의 선택이라는 것이다. 마지막 눈을 감기 전이라도 형제와 친구를 찾아야 한다. 평생토록 일군 자비와 선행과 부드러움의 역사가 한낱 가식과 위선의 종잇장으로 날아가 버릴 것이기 때문이다. 평생을 공부한 게 영어고 언어인지라 오늘도 한 자락 인용하자면 ‘용기(courage)’는...
"1초면 FHD영화 15편 다운" SK하이닉스, 세계 최고속 모바일용 D램 출시 2023-01-25 09:46:52
유전율(K)이 높은 물질을 D램 트랜지스터 내부의 절연막에 사용해 누설 전류를 막고 정전용량을 개선한 차세대 공정이다. 속도를 빠르게 하면서도 소모 전력을 줄일 수 있다. SK하이닉스는 지난해 11월 HKMG 공정을 모바일 D램에 세계 최초로 도입했다. 회사는 "HKMG 공정 기술력을 통해 신제품이 최고의 성능을 갖추게...
영화 15편을 1초에…SK하이닉스, 세계 최고속 모바일용 D램 출시 2023-01-25 08:56:11
D램 트랜지스터 내부의 절연막에 사용해 누설 전류를 막고 정전용량을 개선한 차세대 공정으로, 속도를 빠르게 하면서도 소모 전력을 줄일 수 있는 것이 특징이다. IT 업계는 5G 스마트폰 시장이 확대되면 속도나 용량 등이 고도화된 메모리 수요가 늘어날 것으로 보고 있다. LPDDR5T의 활용 범위도 스마트폰뿐 아니라...
미·유럽 휴장..12월 기대인플레 3.8%로 꺾여-와우넷 오늘장전략 2022-12-27 08:48:13
HPSP는 High-K 절연막을 사용하는 트랜지스터의 계면특성을 개선하는고압 수소 어닐링 장비를 제조해서 판매하는 회사 - 반도체 공정 미세화로 인한 수요 증가 - 최근 글로벌 경기 침체로 인해 반도체 수요가 크게 둔화 중. 이러한 상황에서도 HPSP 어닐링 장비는 미세화로 인한 수혜를 받으며 지속적인 매출 성장이 가능할...
"퇴행성 허리디스크 통증에 후천적 유전자 변화 영향" 2022-12-19 11:13:44
기자 = 자생한방병원 척추관절연구소 홍진영 선임연구원 연구팀은 퇴행성 허리디스크(요추추간판탈출증)로 통증이 만성화되는 과정에 후성유전학적인 영향이 있다는 사실을 동물실험으로 규명했다고 19일 밝혔다. 이 연구 결과는 국제학술지 '셀즈'(Cells) 최근호에 발표됐다. 노화를 설명하는 학설 중 하나인...
SK하이닉스, 소비전력 25% 줄인 모바일 D램 개발 2022-11-09 17:37:10
높은 물질을 D램 트랜지스터 내부의 절연막에 사용해 누설 전류를 막고 정전 용량을 개선한 차세대 공정이다. 이 공정을 적용한 LPDDR 5X는 국제반도체표준협의기구(JEDEC)가 정한 초저전압 범위인 1.01~1.12V에서 작동한다. 이전 세대 대비 소비전력을 25% 줄인 게 특징이다. 이번에 개발한 LPDDR 5X는 모바일 D램 중 HKMG...