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美, 13개 中 기업 '무더기' 예비 블랙리스트 올려 2023-12-20 16:06:47
7나노미터(㎚·1㎚=10억분의 1m) 반도체가 들어간 스마트폰 ‘메이트 프로 60’을 출시하면서 미국 정부는 더욱 예민한 반응을 보이고 있다. ‘첨단 반도체’의 기준으로 꼽히는 7나노미터 반도체가 들어간 해당 스마트폰이 출시되면서 업계에서는 중국이 미국의 제재에도 불구하고 반도체 기술 개발의 돌파구를 만든 게...
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'극미량 수소가스 감지' 비접촉식 테라헤르츠 광센서 개발 2023-12-20 10:00:26
나노미터=10억분의 1ｍ) 두께로 증착시키고 폭 14㎚의 좁은 공간을 형성, 테라헤르츠 신호 민감도를 극대화했다. 공기 중의 수소가 14㎚ 폭의 좁은 공간에 들어가면 팔라듐에 흡착되면서 수소와 산소 촉매 반응으로 표면에 물 분자가 생성되는데, 이때 테라헤르츠파 신호 값 변화를 분석하면 수분 이내로 0.25% 농도의 수소...
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대만 TSMC, 7번째 패키징 공장 건설 추진…"美인텔과 경쟁 대비" 2023-12-19 14:43:03
나노미터·10억분의 1m) 설비를 내년 4월께 반입할 예정이라고 보도했다. 나노는 반도체 회로 선폭을 의미하는 단위로, 선폭이 좁을수록 소비전력이 줄고 처리 속도가 빨라진다. 현재 세계에서 가장 앞선 양산 기술은 3나노다. 2나노 부문에서는 TSMC가 대체로 우세한 것으로 전문가들은 평가하고 있다. jinbi100@yna.co.kr...
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삼성전자, XR·로봇 등 첨단플랫폼용 차세대 이미지센서 공개 2023-12-19 11:00:04
940㎚(나노미터)에서 업계 최고 수준인 38%의 양자 효율을 구현해 모션 블러를 최소화하고 선명한 이미지를 제공한다. 아울러 근거리에서 높은 해상도를 제공하는 면광원 모드뿐 아니라 원거리 측정이 가능한 점광원 모드를 동시에 지원해 최대 측정 가능 거리를 기존 5ｍ에서 10ｍ로 늘렸다. 함께 공개된 아이소셀 비전...
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"中 아이폰 금지령 8개성으로 확대" 2023-12-17 18:39:40
중국 시장이 차지하는 비중은 20%에 달해 사용 금지령이 확대되면 타격이 만만치 않을 전망이다. 삼성전자에까지 여파가 미칠 것이란 예상도 나온다. 미국의 제재로 첨단 반도체 장비를 확보할 수 없는데도 중국 화웨이는 지난 8월 7㎚(나노미터·1㎚=10억분의 1m) 공정 프로세서가 내장된 스마트폰인 메이트프로60을...
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[사설] 프랑스發 IRA 발진…공급망 전쟁 전 세계로 격화 2023-12-17 17:42:17
7나노미터 첨단반도체 탑재 화웨이폰에 강력 규제를 예고하자 중국은 ‘해외 브랜드 전자기기 금지령 확대’로 맞불을 놨다. 이코노미스트는 미·중 갈등 심화에 따른 ‘제2의 냉전’과 자원지도 재편에 따른 새로운 녹색 강국 부상을 내년 주요 트렌드로 지목했다. ‘자유무역 최대 수혜국’인 한국에 치명적인 도전이 될...
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[단독] '반도체 기술 中유출' 삼성 前직원 수백억 받아 2023-12-15 18:35:30
18나노급 D램 공정과 반도체 증착 기술을 유출한 것으로 보고 있다. D램은 PC와 서버, 스마트폰 등에 쓰이는 반도체다. 연산처리, 메모리 저장 등 고성능 전자기기의 중요한 부품 중 하나다. 증착 기술은 반도체 재료인 웨이퍼 표면에 1마이크로미터 미만 두께의 얇은 막을 입혀 전기적 특성을 갖도록 하는 기술이다....
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인텔, AI 칩으로 엔비디아에 도전장…델·MS 등과 연합전선 2023-12-15 17:56:40
불리기도 한다. 코어 울트라 칩은 인텔의 7㎚(나노미터·1㎚는 10억분의 1m) 공정으로 제작돼 이전 세대 칩보다 전력 효율이 높다. 또 그래픽 성능이 향상돼 어도비 프리미어와 같은 프로그램을 40% 이상 빠르게 실행할 수 있다. 제온 프로세서는 클라우드 기업과 같은 대규모 조직에 필요한 서버를 운영하는 데 쓰인다....
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[단독] '반도체 기밀 中에 유출' 삼성 직원, 수백억대 리베이트 정황 포착 2023-12-15 09:48:53
18나노급 D램 공정과 반도체 증착 기술을 유출한 혐의를 받는 것으로 알려졌다. D램은 PC와 서버·스마트폰 등에 쓰이는 반도체다. 연산처리, 메모리 저장 등 고성능 전자기기의 중요한 부품중 하나다. 증착 기술은 반도체의 재료인 웨이퍼 표면에 1마이크로미터 미만 두께의 얇은 막을 입혀 전기적 특성을 갖도록 하는...
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귀국한 이재용, 얼굴에 미소…"출장 성과 반도체가 90%" 2023-12-15 08:47:15
나노미터(㎚·1㎚=10억분의 1ｍ) 공정의 핵심 장비다. 경 사장은 "이번 협약은 경기도 동탄에 공동 연구소를 짓고 거기서 하이 NA EUV를 들여와서 ASML 엔지니어와 삼성의 엔지니어들이 같이 기술 개발하는 것이 주목적"이라며 "장비를 빨리 들여온다는 관점보다는 공동 연구를 통해 삼성이 하이 NA EUV를 더 잘 쓸 수 있는...
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