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SK 불화수소 가스 양산 시작…일 수출규제 후 국산화 박차(종합) 2020-06-17 14:06:26
최근 고부가 제품인 하드마스크(SOC)와 불화아르곤 포토레지스트(ArF PR) 개발에도 나섰다. 불화아르곤 포토레지스트도 해외의존도가 90%에 달한다. SK머티리얼즈는 내년에 400억원을 투자해 생산시설을 준공하고 2022년부터 연 5만갤런 규모 포토레지스트를 생산할 계획이다. 공장은 세종시 인근에 들어설 것으로 보인다....
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불화수소 `탈일본`…SK, 소재 국산화 첫 성과 2020-06-17 09:47:52
최근 하드마스크(SOC)와 불화아르곤 포토레지스트(ArF PR) 개발에도 나섰다. 반도체 웨이퍼 위에 포토레지스트(감광액)를 바르고 노광 장비로 빛을 쏘면 빛의 노출에 반응해 화학적 성질이 변하면서 회로 패턴이 새겨진다. SOC는 포토레지스트 보조재로 패턴이 무너지지 않게 보호하는 소재다. 불화아르곤 포토레지스트는...
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SK, 불화수소 양산 시작…일 수출규제 후 첫 소재 국산화 2020-06-17 09:36:21
하드마스크(SOC)와 불화아르곤 포토레지스트(ArF PR) 개발에도 나섰다. 하드마스크는 반도체 미세회로를 새기는 포토마스크 보조재료이고, 포토레지스트(감광액)는 반도체 제조의 첫 단계인 노광(露光·Photo) 공정에 필요한 소재다. 특히 불화아르곤 포토레지스트는 해외의존도가 90%에 달해 제품 양산이 본격화되면 국내...
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SK 불화수소 가스 양산 시작…일 수출규제 후 국산화 박차 2020-06-17 09:25:43
고부가 제품인 하드마스크(SOC)와 불화아르곤 포토레지스트(ArF PR) 개발에도 나섰다. 불화아르곤 포토레지스트도 해외의존도가 90%에 달한다. SK머티리얼즈는 내년에 생산시설을 준공하고 2022년부터 연 5만갤런 규모 포토레지스트를 생산할 계획이다. SK실트론도 지난해 미국 듀폰사로부터 전기차에 필수 소재인 차세대...
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삼성, 평택에 첫 파운드리 생산라인 구축…비전 2030 박차(종합) 2020-05-21 12:09:10
수 없는 초미세 회로 구현이 가능하다. 기존 불화아르곤을 대체할 수 있는 차세대 광원으로, 고성능·저전력 반도체를 만드는 데 필수적인 기술이다. 현재 글로벌 파운드리 시장은 대만의 TSMC가 압도적인 1위 자리를 지키고 있으며 삼성이 2위 자리에서 추격하는 양상이다. 삼성전자는 차세대 기술인 EUV를 통한 기술력...
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"우리는 남는다" ...삼성, 평택에 파운드리 공장 신설 2020-05-21 11:00:00
생산 시설을 구축한다고 밝혔다. EUV는 기존 불화아르곤(ArF)을 대체할 수 있는 차세대 광원으로 꼽힌다. 파장의 길이가 불화아르곤(ArF)의 1/14 미만에 불과해 보다 세밀한 반도체 회로 패턴 구현에 적합하다. 또 복잡한 멀티 패터닝 공정을 줄일 수 있어 반도체의 고성능과 생산성을 동시에 확보할 수 있는 것으로...
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'일본 의존도 90%' 반도체용 블랭크마스크 국내서 생산한다 2020-04-20 10:50:28
따라 불화크립톤(KrF), 불화아르곤(ArF), 극자외선(EUV)용으로 구분되며 ArF와 EUV가 하이엔드급이다. 이 제품은 대(對)일본 수입 상위 20대 핵심 소재·부품·장비 품목에 속한다. 20대 품목은 2021년까지 공급안정성을 확보하는 것을 목표로 국내 생산 확대, 기술개발, 수입국 다변화 등을 추진 중이다. 또한 나머지 80대...
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SKC, 반도체용 블랭크마스크 양산...."日 의존도 90%" 2020-04-20 06:21:11
20일 밝혔다. 블랭크마스크는 반응시키는 빛의 파장에 따라 불화크립톤(KrF), 불화아르곤(ArF), 극자외선(EUV)용으로 구분되며 ArF와 EUV가 하이엔드급이다. 이 제품은 대(對)일본 수입 상위 20대 핵심 소재·부품·장비 품목에 속한다. 20대 품목은 2021년까지 공급안정성을 확보하는 것을 목표로 국내 생산 확대,...
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SKC '일본 의존도 90%' 반도체용 블랭크마스크 연내 양산 2020-04-20 06:00:01
불화크립톤(KrF), 불화아르곤(ArF), 극자외선(EUV)용으로 구분되며 ArF와 EUV가 하이엔드급이다. 이 제품은 대(對)일본 수입 상위 20대 핵심 소재·부품·장비 품목에 속한다. 20대 품목은 2021년까지 공급안정성을 확보하는 것을 목표로 국내 생산 확대, 기술개발, 수입국 다변화 등을 추진 중이다. 나머지 80대 품목은...
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이재용 "철저히 준비해 벽 넘자"…'EUV 적용 D램' 등 미래기술 챙겨 2020-03-25 17:29:26
그릴 때 활용된다. 현재 널리 쓰이는 불화아르곤(ArF) 장비를 쓸 때보다 제품 불량률을 낮추고 성능을 향상시킬 수 있다. EUV 노광 장비는 빛으로 웨이퍼에 회로를 새길 때 쓰인다. 광원으로 극자외선을 쓰는 게 특징이다. 극자외선 파장은 13.5nm(나노미터, 1nm=10억분의 1m)로 불화아르곤 노광 장비(193nm)의 14분의 1...
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