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테스 '플라즈마 이용 탄소막 증착법' 특허 2018-03-06 16:09:51
이용 탄소막 증착법' 특허 (서울=연합뉴스) 전명훈 기자 = 반도체 장비업체 테스[095610]는 '플라즈마를 이용한 비정질 탄소막의 증착 방법' 국내 특허를 취득했다고 6일 공시했다. 이 기술을 활용하면 공정 효율성을 개선할 수 있다고 회사 측은 설명했다. id@yna.co.kr (끝) <저작권자(c) 연합뉴스, 무단...
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한상범 LGD 부회장 "OLED 중심으로 사업 가속화" 2018-01-09 10:00:11
temperature polycrystalline silicon)을 사용한 lcd를 말한다. 비정질 실리콘(a-si)보다 전자 이동도가 높고 전류 누설이 적어 고해상도 디스플레이 적합하다.사이니지는 터치 센서를 패널에 내재화해 고감도 터치 성능을 구현한 인터치(in-touch) 기술과 초대형, 내로우 베젤(narrow bezel) 등 차별화 제품으로 시장을 확...
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[이달의 산업기술상] 박근오 테스 상무, 플래시 메모리 만드는 필수장비 국산화 2017-12-10 19:43:35
제조에 쓰이는 하드마스크 증착용 비정질 탄소 박막 플라즈마 화학증착장비를 국산화했다. 플래시 메모리 등을 제조하는 데 필수적인 장비로 반도체 공정 미세화에 사용된다. 테스가 국산화하기 전에는 전량 수입에 의존할 정도로 개발이 까다롭다.테스는 반도체 전공정장비 시장에서 독자적인 국산 장비를 내놓는다는 ...
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반도체 호황의 역설…중국의 잠재적 경쟁자 키울 수도 '경고' 2017-10-18 16:58:14
비정질 물질을 이용해 전하를 가둬 데이터를 저장하는 p램의 일종으로, d램보다 느리지만 낸드보다 빠르고 기억을 영구 저장할 수 있는 새로운 성격의 메모리 반도체다.전문가들은 그러나 이같은 위협이 현실화 되려면 상당한 시간이 걸릴 것으로 봤다. 도 연구원은 “삼성전자와 sk하이닉스도 차세대 반도체 생산을...
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부경대-UNIST, 차세대 배터리 소재 개발 2017-10-17 18:39:03
수나노미터(㎚·1㎚=10억분의 1m) 두께의 비정질 실리콘으로 균일하게 코팅해 에너지 밀도를 극대화하고 흑연질탄소 보호막 코팅으로 전지의 안정성까지 높이는 등 원천 기술을 확보했다.이렇게 개발된 ‘가장자리 활성화 흑연, 실리콘 복합체’는 배터리 충전 및 방전 시 리튬 이온과의 반응 속도를 크게...
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부경대 고민성 교수,가장자리 활성화 흑연/실리콘 복합체 개발 2017-10-17 10:06:55
수 나노미터(1나노미터는 10억분의 1미터) 두께의 비정질 실리콘으로 균일하게 코팅해 에너지 밀도를 극대화시키고, 흑연질탄소 보호막 코팅으로 전지의 안정성까지 높이는 등 원천 기술을 확보했다. 이렇게 개발된 ‘가장자리 활성화 흑연,실리콘 복합체’는 배터리 충전 및 방전 시 리튬 이온과의 반응 속도는...
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日히타치금속 "中기업이 회사기밀 훔쳤다" 美ITC에 제소 2017-09-20 17:16:56
태그에 이용되는 비정질금속리본(AMR)의 제조비법을 훔쳤다고 밝혔다. AMR은 유리와 비슷한 성질을 가진 합금으로, 고강도와 강한 자기력 때문에 티타늄을 대신해 의료장비에 이용되거나 스텔스 비행기 제조와 고효율 변압기 등에 이용된다. 히타치금속은 전직 일본인 직원 2명이 영업비밀과 AMR을 일반 철강보다 얇고...
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'얕은 곳'에서 발생한 수마트라 대지진 원인 찾았다 2017-05-26 03:00:00
회절 분석 등을 실시한 결과 원양퇴적물에는 화산과 비정질 규소가 20% 이상 포함돼 있는 것으로 나타났다. 또 지층수를 분석한 결과, 염소 농도가 깊이에 따라 점차 높아지다가 1.3km 부근에서 갑자기 낮아졌다. 이 1.3km의 깊이는 원양퇴적물 위쪽이며 니코바선상지가 쌓이기 시작하는 곳으로, 온도·압력이 높아지면서...
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[마켓인사이트]GS에너지, '자본잠식' 파워카본테크놀로지 중국社에 매각 2017-05-25 18:49:00
및 리튬이온전지용 비정질 탄소 음극재를 생산하는 회사로 2008년 설립됐다. 2010년부터 7년 연속 적자(순손실)을 내며 지난해 완전자본잠식 상태에 빠졌다. 지난해 매출은 64억원으로 전년(182억원) 대비 3분의 1로 쪼그라들었다. 지난해 낸 영업손실 액수는 54억원, 순손실 규모는 148억원이다. 연이은 실적 부진과...
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삼성전자 M램, 인텔에 도전장 2017-04-25 17:55:54
등 비정질 물질을 이용해 전하를 가둬서 데이터를 기억한다. 속도는 m램보다 느리지만 re램보다 빠르다. re램은 재료 스스로 저항하는 성질이 있는 실리콘 옥사이드를 이용해 기억을 저장한다.지금으로선 삼성전자의 m램과 인텔의 p램 중 어느 쪽이 차세대 메모리의 대세가 될지 가늠할 수 없다. 소재 자체만 보면 m램의...
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