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ASML '미래 10년 로드맵' 세울 때…세금·규제에 둘러싸인 韓반도체는 '신음' 2024-10-06 18:26:24
성과다. ASML은 범용으로 쓰이는 불화아르곤(ArF) 방식의 노광이 주류로 올라서기 훨씬 전인 2006년부터 EUV 연구를 시작했다. 제때 필요한 인수합병(M&A)을 단행한 것도 장기적인 로드맵의 결과물이다. 국내 기업들이 막대한 상속세와 까다로운 공정거래법에 신음할 때 ASML은 M&A로 ‘반도체 영토’를 확장했다. 푸케...
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비 새는 창고서 출발한 ASML…협력·뚝심 경영으로 세계 호령 2024-10-06 17:59:54
우선시한 기업 문화가 자리하고 있다. ASML은 범용으로 쓰이는 불화아르곤(ArF) 방식의 노광이 주류로 올라서기 훨씬 전인 2006년부터 EUV 연구를 시작했다. 2013년 미국 광원 기업 사이머를 인수했고, 2016년 독일의 유력 광학 전문 회사 자이스의 지분 24.9%를 사들이며 협력 관계를 다졌다. 자국 소재·부품·장비 업체...
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알짜 계열사도 파는 SK…숨가쁜 '리밸런싱' 완성 단계 2024-08-19 17:47:20
SK스페셜티 매각까지 진행하자 ‘선택과 집중’이라는 SK의 리밸런싱 퍼즐이 완성되고 있다는 평가가 제기된다. SK스페셜티 매각이 성사되면 SK는 특수 가스 사업 대신 산업용 가스 사업에 집중할 것으로 전망된다. 산업용 가스는 산소, 질소, 아르곤, 수소 등 범용 가스를 활용한다는 점에서 특수 가스와 구분된다....
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삼성 반도체 계열사 세메스, 포토공정용 장비 국내 첫 양산 2024-06-24 17:31:24
회로를 새기는 노광 기술은 불화크립톤(KrF), 불화아르곤(ArF), 극자외선(EUV)으로 나뉜다. 세메스는 불화크립톤 장비만 제작해 왔는데, 고성능 노광기에 대응하기 위해 불화아르곤 장비를 개발했다. 불화아르곤은 공기를 활용하는 드라이와 액체를 사용하는 이머전 방식으로 나뉘는데, 세메스는 드라이보다 기술이 높은 이...
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세메스, 日에 의존하던 반도체 장비 국산화 성공 2024-06-24 16:23:28
회로를 새기는 노광 기술은 불화크립톤(KrF), 불화아르곤(ArF), 극자외선(EUV)으로 나뉜다. 세메스는 불화크립톤 장비만 제작해 왔는데, 고성능 노광기에 대응하기 위해 불화아르곤 장비를 개발했다. 불화아르곤은 공기를 활용하는 드라이와 액체를 사용하는 이머전 방식으로 나뉘는데, 세메스는 드라이보다 기술이 높은 이...
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日, 새 경제대책 반도체 지원…미쓰비시 공장 신설 2023-09-25 09:12:13
화학업체인 미쓰비시케미컬은 불화아르곤 포토레지스트(감광재)용 고분자 소재 공장을 건설한다. 포토레지스트는 반도체 웨이퍼 위에 회로 패턴을 형성하는 노광 공정에 쓰이는 핵심 소재다. 미쓰비시케미컬의 생산능력은 신공장이 완공되면 종전 요코하마시 쓰루미 제조시설과 합쳐서 2배로 늘어날 전망이다. 닛케이는...
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미쓰비시, 반도체 소재 공장 건설…TSMC 日진출에 투자 잇따라 2023-09-25 09:05:57
화학업체인 미쓰비시케미컬은 불화아르곤 포토레지스트(감광재)용 고분자 소재 공장을 건설한다. 포토레지스트는 반도체 웨이퍼 위에 회로 패턴을 형성하는 노광 공정에 쓰이는 핵심 소재다. 미쓰비시케미컬의 생산능력은 신공장이 완공되면 종전 요코하마시 쓰루미 제조시설과 합쳐서 2배로 늘어날 전망이다. 닛케이는...
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"없으면 반도체칩 못 만들어"…중·러가 공급망 장악한 특수가스 [글로벌 新자원전쟁③] 2023-09-19 07:49:06
넘는 가스가 활용된다. 범용 가스는 질소, 산소, 아르곤, 헬륨, 수소, 이산화탄소 등이고, 특화된 가스는 암모니아, 실란, 염화수소, 삼불화질소, 아산화질소 등이다. 반도체 공정이 나노미터(nm·1nm=10억분의 1m) 단위로 미세화할수록 ‘초순수’ 가스의 수요가 커지고 있다. 전 세계적으로 파운드리(반도체 수탁생산)를...
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美싱크탱크 "韓, 칩 제조 선두…對中 반도체 수출통제 함께해야" 2023-03-05 05:00:01
생산에 필요한 극자외선(EUV) 노광장비와 불화아르곤(ArF) 액침 스캐너를 독점적으로 제공하는 국가라고 짚었다. 반도체 생산설비 관련 핵심기술을 보유한 이들 국가가 중국으로 향하는 관문을 옥죔으로써 대중국 수출통제를 더욱 효과적으로 만들 것이라는 판단이다. CSIS는 "현재 중국내 생산 설비로는 기술적으로 노...
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TSMC 잡을 '비밀무기'…삼성 '이 부품'에 사활 걸었다 [강경주의 IT카페] 2023-01-23 08:00:05
EUV 노광장비는 기존 불화아르곤 심자외선(ArF DUV) 노광장비 대비 파장이 짧아 더 미세한 패턴을 그릴 수 있다. 파장이 짧은 만큼 빛 흡수율이 크기 때문에 투과율이 높은 펠리클을 사용할수록 수율이 개선된다. 과거에는 기술적 한계로 상용화하지 못해 삼성전자와 TSMC는 전용 펠리클 없이 EUV 공정을 수행했다. EUV...
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